，PVDF本身并不直接适合传统光刻工艺。传统光刻通常使用是光敏材料，如光刻胶〔photoresist〕，这些材料于受到特定波长光线照射后会有化学性质变化，从而实现图形转移。而PVDF作为一种非光敏性材料，不含这种特性。然而，通过改性或复合技术，可以使PVDF含一定光敏性，进而用途于光刻。
例如，可以通过于PVDF中引入光敏基团或者将其和光敏聚合物复合，生产出一种新型功能材料。这种改性后PVDF能够于紫外光或其他光源作用下有交联或降解反应，从而满足光刻需求。另外，因为PVDF具有优良机械强度、化学稳固性，改性后PVDF于光刻过程中能够提供更持久保护层，这对于高精度微细加工至关很大。
值得注意是，尽管PVDF经过改性后可以用于光刻，但于实际用途中仍需克服诸多挑战，比如如何精确控制材料光敏性能、确保加工过程中均匀性、稳固性。随着纳米技术、功能材料研究连续深入，未来PVDF于光刻行业用途潜力巨大，特别是于柔性器件、生物医学行业，其特殊性能优势将得到更加充分发挥。
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