聚甲基丙烯酸甲酯〔PMMA〕，俗称有机玻璃，是一种透明性极佳热塑性塑料，于光学、、微机电系统行业有着大量用途。其中，PMMA光刻技术是将微细结构图案转移到PMMA表面或内部很大工艺，尤其于微流控芯片、光学元件生产还有半导体封装方面具有不可替代位。

光刻过程通常包括以下几个步骤：，要制备一个高质量PMMA薄膜或者板材作为基底材料，并对其进行清洁处理以去除表面污染物；通过旋涂法或静电吸附方式均匀涂覆一层光敏胶〔正胶或负胶〕于PMMA表面；接着，使用紫外光刻机按照设计好掩模版对PMMA上光敏胶进行曝光，这一过程中，被遮挡部分未有化学变化，而暴露区域则有了交联反应使得其性质改变；然后，利用显影液溶解掉未曝光区域光敏胶，从而形成所需图形轮廓；最后一步是蚀刻工序，通过物理或化学方法去除掉没有保护作用PMMA层，最终得到精确复制微纳结构。

PMMA光刻技术优势于于能够实现亚微米级别分辨率，和此同时因为PMMA本身优良机械性能、耐候性，使得加工出产品具有很高稳固性、可靠性。另外，随着纳米科技发展，基于PMMA新型光刻技术也于连续涌现，比如结合软光刻、激光直写领先手段，进一步拓宽了其用途范围。未来，随着更多创新性研究开展，PMMA光刻将于生物医学工程、信息存储多个前沿行业发挥更大作用。

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